武汉光电国家研究中心公共实验平台——微纳工艺与表征平台位于光电信息大楼，始建于2005年9月。平台使用总面积约2300平方米的超净实验室，拥有近百台（套）工艺平台代表性设备，现有设备总资产近1.5亿，是先进的开展微纳结构光电器件研究的平台。

平台建有完善的动力、净化空调及气体保障系统。拥有“电子束曝光系统（EBL）”、“紫外光刻机”2台、“纳米压印机”、“金属有机化学气相淀积系统（MOCVD）”2台、“刻蚀机（ICP）”2台、“低压化学气象沉积(LPCVD)”1台、“等离子体增强化学气相沉积(PECVD)”1台、“分子束外延生长系统(MBE)”1台、“电子束蒸发镀膜机”2台、“磁控溅射镀膜机”2台、“离子束溅射机”等多台大型工艺设备；另有“高分辨率XRD”、“光谱椭偏仪”、“原子力显微镜(AFM)”、“台阶仪”、“微区Raman/PL”、“FIB/SEM双束电镜”、“高分辨SEM”、“透射电镜”等测试设备；平台可开展光电子器件、半导体器件制作、中试及检测工作。

  微纳工艺与表征平台是一个公共服务平台，向全国社会机构、大学和企业开放，提供项目合作、人员培训、开发设计和微纳加工等服务。