名称纳米压印型号EITRE®   3制造商瑞典Obducat主要功能高精度纳米压印技术指标紫外压印、热固化压印，最大3英寸

名称步进式光刻机型号Nikon   I9制造商日本尼康主要功能高精度光刻技术指标光刻精度：500nm套刻对准精度：150nm最大曝光面积：2cm*2cm。基片尺寸：自动上片可以做6英寸硅片，手动上片最小可以做1/4的两英寸片

无掩模光刻机                管理员：黄光/张广学/郑盼盼                工艺类别：光刻D113                所属单位：18luck新利电竞                状态：正常价格：校外：650元/60分钟，校内：450元/60分钟单位预约时间：30(单位:分钟)型号、参数及用途                厂家型号：苏大维格MicroLab Ⅲ 最大基板尺寸：5” x 5” 最大写入面积：100 x 100mm² 设备用途： 405nmLED紫外光源DMD数字微镜直写曝光，可以用于掩模...

EBL 管理员：黄庆忠/曾成                所属单位：18luck新利电竞            状态：正常价格：校外：1400元/60分钟，校内：1000元/60分钟单位预约时间：30(单位:分钟)型号、参数及用途                电子束光刻系统|Vistec EBPG 5000plus ES|EBL精度：7nm                主要技术指标及注意事项                加速电压：50kV-100kV电子束最小束斑：2.2nm加工精度：<8nm线条拼接精度：<20nm@250微米写场@100kV写场...

MA8 BA8紫外曝光机                管理员：黄光/张广学                工艺类别：光刻                所属单位：18luck新利电竞                状态：正常价格：校外：800元/60分钟，校内：600元/60分钟                单位预约时间：30(单位:分钟)型号、参数及用途                曝光分辨率0.7微米，套刻精度正面0.3微米，背面0.5微米。光刻机/双面对准/最低分辨率0.7微米/加工尺寸：碎片-8英寸                主要技术...