椭偏仪RC2

RC2

美国J. A. Woollam

1) 各种光电材料的光学常数分析，测量对象包括金属、半导体、超导体、绝缘体、非晶体、磁性材料、电光材料、非线性材料、各项同性和各向异性材料等。

2) 薄膜材料的厚度以及粗糙度分析。

在直射状态下，测量光束：45±0.03，：0±0.08；

退偏振：0%±0.5%；

15个归一化穆勒矩阵元；

膜厚重复性优于0.005nm（30次25nm 热氧SiO₂厚度测量的标度偏差）