新Ⅲ-Ⅴ族 ICP

型号

PlasmaPro Cobra 300

制造商

英国牛津仪器Oxford Instruments Plasma Technology

主要功能

Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体刻蚀，InP、GaAs、GaN、AlN、GaP等。

技术指标

样品最大支持8英寸。现有压环4英寸。

气体种类及最大流量（sccm）Ar：100、O₂：20、O₂：200、SF₆：100、CHF₃：100、CF₄：100、N₂：100、H₂： 100、CH₄：100、Cl₂：100、BCl₃：100。

射频功率600W（13.56MHz）、ICP功率3000W（2MHz）。

具有ALE原子层刻蚀功能。

温度范围-20℃~400℃。