原子层沉积

型号

ELEGANT II-200

制造商

原磊纳米材料有限公司

主要功能

沉积Al2O3、TiO2、HfO2、AlN、TiN、Si3N4、Pt等材料

技术指标

氧化铝沉积，6寸圆片均匀性小于等于1%；

氮化铝沉积，6寸圆片均匀性小于等于1%;

氮化钛沉积，6寸圆片均匀性小于等于2%;