PECVD

Oxford PlasmaPro 800 Stratum PECVD.

等离子增强化学气相沉积，温度范围20-400℃

气体：5%SiH4/95%N2、N2O、NH3、80%CF4/20%O2，LF、HF双射频。                

1、100℃的工艺需在前1天下班时告知工程师或助管降温，在第二天早上预约（降温需要4个小时）。

2、材料氧化硅、氮化硅、氮氧化硅，托盘直径46cm。

3、从第二片开始每加一片增加100元。