| 无掩模光刻机 |
| 管理员：黄光/张广学/郑盼盼 |
| 工艺类别：光刻D113 |
| 所属单位：18luck新利电竞
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| 状态：正常 |
价格：校外：650元/60分钟，校内：450元/60分钟
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单位预约时间：30(单位:分钟)
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| 型号、参数及用途 |
厂家型号：苏大维格MicroLab Ⅲ 最大基板尺寸：5” x 5” 最大写入面积：100 x 100mm² 设备用途： 405nmLED紫外光源DMD数字微镜直写曝光，可以用于掩模板制作，亚微米及以上任意2D图案曝光和128级3D灰度曝光。 |
| 主要技术指标及注意事项 |
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基板厚度：0- 15 mm LED波长：光源波段405nm 输出功率：960mw 自动聚焦：0-1000um 最小分辨率/结构尺寸：0.5μm 最小线宽间距： 1μm 套刻对淮精度(>5x5mm2) [3σ，nm] ≤500 套刻对淮精度(>50x50mm2) [3σ，nm] ≤1000 DMD采用德州仪器0.55英寸DMD数字微镜1092x1080像素,像元大小10.8um。 写入速度: 80mm²/min at 2μm 数据格式:DXF，CIF，GDSII 设备支持扫描曝光，
灰度曝光，拖曳曝光多种曝光模式，阵列模式，支持128 阶3D灰度光刻
注意事项： 1.目前常用GDS、8位BMP（灰度曝光用）格式文件导入图形，需使用微纳平台专用U盘导入设备，不得将个人U盘插在设备上。 2.第一次使用设备会有工程师进行培训，如果不会使用设备禁止私自操作设备。 3.聚焦过程镜头接近样片时移动速度不超过0.01mm/s，禁止镜头撞到样片。
