武汉光电国家研究中心打造升级版
“微纳工艺与表征平台”
微纳工艺与表征平台将在现有硬件设备和工艺能力的基础上，依托集成光子学、光子辐射与探测、光电信息存储等三个研究部，重点建设三条光电子器件工艺线、表征测试平台和超算平台，包括以硅基光互连为代表的硅基光电子器件工艺线；以通信用高速光收发模块为代表的三五族化合物半导体光电子器件工艺线；以新体制二维材料光电子器件为代表的多材料体系混合光电子器件工艺线。统一建设共性设备，如：湿法清洗与腐蚀、高精度光刻与电子束曝光、真空镀膜、芯片封装、表征测试等；重大提升关键工艺节点，如：各种材料的干法刻蚀、材料的外延生长等。平台的建设目标是要具备微纳光电子器件制备领域的全链条加工表征能力，为国内的微纳光电子器件研发人员提供一站式器件研发平台。
