•武汉光电国家研究中心微纳工艺与表征平台2021年9月搬入新光电信息大楼。随着工艺及测试设备的搬迁、配管和调试，平台即将投入使用。
•平台使用总面积约2000多平方米，净化等级最高为5级（百级），最低为8级（十万级）；平台建有完善的动力、净化空调及气体保障系统。
•目前，共有开放使用的大型工艺设备36台（套），拥有MOCVD 2台、电子束光刻（EBL）、紫外对准光刻、步进式光刻、纳米压印、无掩膜光刻、 ICP刻蚀机4台、反应离子刻蚀机2台、LPCVD、PECVD、磁控溅射镀膜机、电子束蒸发、原子层沉积、分子束外延、离子束溅射/刻蚀、HF气相腐蚀、引线键合、划片机等多台大型工艺设备。
•另有微区拉曼/PL系统、高分辨率X射线衍射仪、光学椭偏仪、UV-IR光谱仪、高分辨扫描电镜、透射电镜、聚集离子束纳米加工电镜、原子力显微镜、电化学腐蚀、半导体激光器测试仪、光芯片耦合测试等十多台测试设备；平台可开展微纳材料与器件的制作及检测工作。平台现有22位职工对设备进行日常管理、操作和维护。
