[设备]层析穆勒矩阵散射仪测量实验平台

作者：

编辑：郑忠香

发布：2024-01-29

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	中文名称：	层析穆勒矩阵散射仪测量实验平台
	英文名称：	Measurement experimental platform for tomographic Muller matrix scatterometer
	仪器编号：	02180093
	仪器型号：	PTMMS-01
	生产厂家：	自研
	放置位置：	先进制造大楼东楼W102集成电路测量装备研究中心

功能介绍

通过将光谱型穆勒矩阵椭偏仪与散射场测量技术相结合，同时借鉴并引入科勒照明与光学层析原理，使仪器具有宽光谱、多入射角层析、全穆勒矩阵测量能力，并提供傅里叶（即散射场）测量模式，实现多层光刻图形套刻误差测量，验证并完善相关理论与方法。应用于光刻胶光学特性表征、多层光刻图形套刻标记的光学散射场测量等。

主要技术参数

（1）层析穆勒矩阵散射场建模计算与测量能力；

（2）套刻标记大小：160μm × 160μm；

（3）测量波长范围：450nm ～ 700nm；

（4）入射角层析范围：-67°～ 67°；

（5）方位角层析范围：0 ～ 360°；

（6）散射场收集范围：-60°～ 60°；

（7）套刻误差重复性测量精度：0.2nm (3σ)；

（8）单点测量速度：≤ 1s。