2008纳米压印光刻国际学术会议

【期数】：2009年06期

【作者】：兰红波

【摘要】：2008年9月26～30日,我参加Obducat AB组织的纳米压印光刻学术研讨会。纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography,NIL)是一种全新的纳米图形复制方法,目前压印的最小特征尺寸可以达到5nm,NIL较之现行的投影光刻和其他下一代光刻技术,具有高分辨