美国化学会220次年会述评

【期数】：2001年03期

【作者】：刘昌俊

【摘要】： 1 会议概况美国化学会220次年会于2000年8月20～24日在美国首都华盛顿举行,由美国化学会主办。此次年会约有1万8千人参加,为国际化学界的盛会,会议论文集为SCI收录。参加会议的主要国家有美、日、英、法、俄、德、意、加、澳、新西兰、保加利亚、印、中等。会议交流论文篇数超过5500篇。该年会涉及化学学科各个分支,参加会议的华人学者人数众多,如刘姓人数计87人;张姓人数93人,但直接自中国参会者约占5%.从人数上看,华人在当今化学研究与发展中起了重要作用。本次年会我国内地有中科院、清华、北大、天津大学、南开、南京大学、吉林大学、武汉大学、中石化等单位参会。本人作为美国化学会会员参加了该年会3个分会,即:催化剂与等离