VLSI布图技术十大问题

【期数】：2000年03期

【作者】：洪先龙

【摘要】： 第33届国际设计自动化学术会议1999年6月21日至25日在美国New Orleans举行。这是电子CAD方面规模最大、水平最高的学术会议,会议期间同时举办IC CAD产品展览会。会议分4大组进行学术报告,主要内容涉及电路模拟、器件模拟、时序分析和验证,故障模拟、测试生成、测试有效性、可测试性和设计验证,布图规划、布局、布线、划分和布图系统,