有机/无机光子学材料研究与应用

【期数】：1999年04期

【作者】：刘丽英

【摘要】： 第43届美国光学工程学会年会于1998年7月19日至24日在美国加里弗尼亚州美丽的海滨城市圣地亚哥举办,与会各国学者有3000多人,再加上参加短训班的学生和参加光学仪器展览的厂家260个,使与会者多达5500多人。会议共收到论文2300多篇,其中有2100篇左右的口头报告,另外还有200多篇张贴文章。